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發(fā)明專(zhuān)利

專(zhuān)利名稱(chēng)：密集方位采樣分塊式平面光電成像系統

專(zhuān)利類(lèi)型：發(fā)明專(zhuān)利

專(zhuān)利號：CN202110453645.0

發(fā)布日期：2025-12-17

授權公告日：
詳細內容

本發(fā)明公開(kāi)一種密集方位采樣分塊式平面光電成像系統,屬于干涉成像技術(shù)領(lǐng)域,包括若干個(gè)沿圓周徑向均勻排列的一維干涉臂,其包括從頂層至底層順次分布的微透鏡陣列、光子集成電路子系統、平衡正交探測器陣列和信號處理子系統;每一個(gè)一維干涉臂上均設有奇數個(gè)采取首尾相接配對方式的微透鏡,來(lái)自目標場(chǎng)景的光經(jīng)過(guò)透鏡對耦合進(jìn)入光子集成電路子系統,形成干涉條紋,信號處理子系統根據平衡正交探測器陣列檢測的互相干可見(jiàn)度信息得到離散空間采樣頻譜,對離散空間采樣頻譜進(jìn)行重建,對重建后的空間采樣頻譜進(jìn)行傅里葉逆變換,得到重建的目標場(chǎng)景圖像。本發(fā)明能夠有效弱化理想圖像偽影,提高理想圖像成像質(zhì)量,同時(shí)提高實(shí)際目標場(chǎng)景圖像質(zhì)量。

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